北京
国家知识产权局信息显示，奥斯力特电子科技（深圳）有限公司申请一项名为“一种石英晶片高压氮气离子束技术表面处理方法”的专利，公开号CN121951455A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本发明适用于石英晶片表面处理技术领域，提供了一种石英晶片高压氮气离子束技术表面处理方法，包括以下步骤：S1：获取高压氮气离子束处理石英晶片过程中的工艺腔室状态参数、离子束质量参数、石英晶片状态参数；S2：基于步骤S1中获取的各项参数分别构建工艺腔室状态监控模型、离子束质量综合评价模型以及表面处理工艺稳定性评估模型，并且从上述各个模型中依次输出工艺腔室状态指数、离子束质量指数以及工艺稳定性指数。本申请的方案通过将腔室本底真空度、工艺气体流量以及衬底温度这三个核心参数作为构建工艺腔室状态监控模型的输入，实现了对高压氮气离子束技术表面处理过程中工艺腔室状态的全面、精确量化评估。
天眼查资料显示，奥斯力特电子科技（深圳）有限公司，成立于2020年，位于深圳市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，奥斯力特电子科技（深圳）有限公司共对外投资了1家企业，专利信息1条，此外企业还拥有行政许可6个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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