北京
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国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积设备和制造电子装置的方法”的专利，公开号CN121951457A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本公开涉及沉积设备和制造电子装置的方法。沉积设备包括腔室，腔室具有内部空间和布置在内部空间中的沉积模块，沉积模块在第一方向上是可移动的，并且沉积模块包括第一沉积源、第二沉积源、第三沉积源、角限制板以及挡板，当在平面中观察时与第一沉积源重叠的第一开口、当在平面中观察时与第二沉积源重叠并且包括开口区域和阻挡区域的第二开口、以及当在平面中观察时与第三沉积源重叠的第三开口通过角限制板被限定，挡板被配置为在阻挡模式下操作以阻挡阻挡区域和第一开口，并且在开口模式下操作以打开第一开口和第二开口。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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