北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“对量测工具的测量照射进行光谱配置的方法和相关联的装置”的专利，公开号CN121969990A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，公开了对量测工具的测量照射进行光谱配置的方法，方法包括：使用所述投射光学系统来投射测量辐射，以获得经投射的测量辐射；在检测器处测量经投射的所述测量辐射的信号幅度度量；根据信号幅度度量来确定经投射的测量辐射的光谱形状；以及在投射光学系统之前对测量照射进行光谱配置，以调整所述光谱形状来匹配期望的光谱形状。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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