北京
国家知识产权局信息显示，武汉思创精密激光科技有限公司申请一项名为“一种电机的壳体的激光清洗方法和激光清洗设备”的专利，公开号CN121911694A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本发明涉及一种电机的壳体的激光清洗方法和激光清洗设备，电机的壳体的激光清洗方法包括以下步骤：S1，使所述电机绕自身轴线旋转至少一周，利用测距传感器对所述电机的壳体进行测距扫描采样，得到测距数据；S2，根据所述测距数据生成位置调节机构的运动轨迹；S3，按照所述位置调节机构的运动轨迹对所述电机的壳体进行激光清洗。本发明通过预扫描获取电机的壳体实际轮廓，生成针对单个电机的个性化轨迹，避免了因电机装夹偏差或个体差异导致的焦距失准问题。同时，由于清洗阶段不再依赖实时测距，彻底消除了激光清洗过程中强散射光对测距传感器的干扰，保证了系统的稳定性和清洗一致性。
天眼查资料显示，武汉思创精密激光科技有限公司，成立于2018年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本4350万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉思创精密激光科技有限公司参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息48条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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