国家知识产权局信息显示,湖南联合半导体科技有限公司取得一项名为“一种CVD炉进气与尾气通用装置”的专利,授权公告号CN224160685U,申请日期为2025年5月。
专利摘要显示,本实用新型提供一种CVD炉进气与尾气通用装置。所述CVD炉进气与尾气通用装置包括分气机构,所述分气机构包括间隔设置的固定板、第一分气板和第二分气板,所述固定板与反应炉的炉壁可拆卸连接,所述固定板与第一分气板之间的间隔形成第一分气腔,所述第一分气板和第二分气板之间的间隔形成第二分气腔;所述固定板上设有与所述第一分气腔连通的气管,所述第一分气板设有同第一分气腔和第二分气腔连通的第一气孔,所述第二分气板上设有同第二分气腔和沉积室连通的第二气孔;所述分气机构有两个,其中一个气管形成进气管,另一个气管形成出气管。本实用新型的分气机构内设置两个分气腔,能够使气体分布更加均匀。
天眼查资料显示,湖南联合半导体科技有限公司,成立于2021年,位于长沙市,是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本2598.4312万人民币。通过天眼查大数据分析,湖南联合半导体科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目1次,专利信息20条,此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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