北京
国家知识产权局信息显示，湖南联合半导体科技有限公司取得一项名为“一种CVD炉进气与尾气通用装置”的专利，授权公告号CN224160685U，申请日期为2025年5月。
专利摘要显示，本实用新型提供一种CVD炉进气与尾气通用装置。所述CVD炉进气与尾气通用装置包括分气机构，所述分气机构包括间隔设置的固定板、第一分气板和第二分气板，所述固定板与反应炉的炉壁可拆卸连接，所述固定板与第一分气板之间的间隔形成第一分气腔，所述第一分气板和第二分气板之间的间隔形成第二分气腔；所述固定板上设有与所述第一分气腔连通的气管，所述第一分气板设有同第一分气腔和第二分气腔连通的第一气孔，所述第二分气板上设有同第二分气腔和沉积室连通的第二气孔；所述分气机构有两个，其中一个气管形成进气管，另一个气管形成出气管。本实用新型的分气机构内设置两个分气腔，能够使气体分布更加均匀。
天眼查资料显示，湖南联合半导体科技有限公司，成立于2021年，位于长沙市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本2598.4312万人民币。通过天眼查大数据分析，湖南联合半导体科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1次，专利信息20条，此外企业还拥有行政许可2个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
