北京
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有投资者在互动平台向龙图光罩提问：(联邦层面)近期USAcountry议会两院拟推出《硬件管控多边协调》(俗称「MATCH」)。影响不限于：一般而言，飞行器/FPV只需要65纳米的制程工艺；而早期的风暴阴影/SCPLE更是只需要微米级的SDRAM静电记忆装置——贵司可否透漏下游具体是哪款光刻机、或者自己是否有这方面的研发意向？ 龙图光罩回复称，关于MATCH法案公司认为，该法案的潜在限制措施主要针对晶圆制造环节的先进光刻、检测等核心设备。目前该法案未对公司掩模版生产所需设备构成限制。公司亦清醒认识到，若法案进入实施阶段或限制范围扩大，可能通过影响下游晶圆厂客户的设备获取、产能扩张计划乃至正常生产经营，从而间接传导至对公司掩模版产品的需求节奏。这是公司需密切关注的间接风险路径。公司积极推进供应链多元化与关键环节的国产化验证，以降低潜在不确定性。公司将持续跟踪政策动向，稳健经营，全力保障投资者利益。
本文源自：金融界AI电报
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