北京
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国家知识产权局信息显示，普罗米鲁斯有限责任公司申请一项名为“微流体装置用聚环烯烃类聚合物制UV-纳米压印微影装置”的专利，公开号CN121816371A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，根据本发明的实施方式总体上涉及一种组合物，其包含由一种以上聚环烯烃类单体形成的聚合物和能够与侧基进行2+2环加成反应的单体，上述聚环烯烃类单体中的至少一种包含马来酰亚胺侧基。更具体而言，在本发明的一实施方式中，提供一种源自一种以上经取代或未经取代的降冰片烯衍生物的聚合物，其中至少一种单体包含经取代或未经取代的马来酰亚胺侧基，上述聚合物与包含经取代或未经取代的马来酰亚胺的单体组合而形成能够用于在曝光于合适的光化辐射下时形成各种可光图案化的聚合物层的组合物。例如，本发明的组合物能够用于形成可在包括微流体装置等的各种应用中使用的UV引发纳米压印层。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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