北京
国家知识产权局信息显示，杭州奥创光子技术有限公司申请一项名为“用于双晶体再生放大结构的凹面全反位置优化方法”的专利，公开号CN121813093A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请公开一种用于双晶体再生放大结构的凹面全反位置优化方法。待优化的双晶体再生放大结构包括光学谐振腔、两块串联放置的增益晶体、两块凹面全反镜和普克尔盒；所述方法包括：确定双晶体再生放大结构中两块增益晶体在光学谐振腔内的位置，根据光学谐振腔物理腔长设定两块凹面全反镜的初始位置；建立增益晶体的热透镜效应模型，获取不同泵浦功率下增益晶体的热透镜焦距，对两块凹面全反镜的初始位置进代优化；对优化后的凹面全反镜位置进行验证，在设定的泵浦功率范围内，检测光学谐振腔的稳定性和输出激光的光束质量，若稳定性和光束质量满足预设要求，确定优化后的凹面全反镜位置为最终位置。
天眼查资料显示，杭州奥创光子技术有限公司，成立于2018年，位于杭州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本4255.52141万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州奥创光子技术有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目92次，财产线索方面有商标信息26条，专利信息159条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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