北京
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国家知识产权局信息显示，光子探索科技（香港）有限公司申请一项名为“一种促进大面积钙钛矿单晶均匀外延生长的方法”的专利，公开号CN121760052A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种促进大面积钙钛矿单晶均匀外延生长的方法，包括以下步骤：步骤1：卤化物衬底溶剂刻蚀处理：将卤化物衬底置入溶剂中，并进行加热对卤化物衬底进行热处理，改变衬底表面微观结构；步骤2：将经过溶剂刻蚀处理的衬底浸泡在钙钛矿单晶生长溶液中。该方法通过选择特定的溶剂对衬底表面进行刻蚀处理，去除部分表面原子层或修复晶格缺陷，进而有效激活衬底表面，使其更适合钙钛矿单晶的快速成核和生长。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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