北京
分享至
国家知识产权局信息显示，欧特克公司申请一项名为“经由机器学习模型来进行生成式设计的草图分析”的专利，公开号CN121729689A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，在各种实施例中，一种用于执行对草图的分析以识别用于生成式设计的一个或多个对象的计算机实现的方法，该方法包括：经由用户干扰接收草图；执行第一经训练的机器学习(ML)模型，该第一经训练的ML模型基于与草图中包括的第一对象相关联并且也被包括在草图中的一个或多个上下文特征来生成该第一对象的标识；向第二机器学习模型传输该标识；以及执行基于该标识来生成第一设计对象的第二经训练的ML模型。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
