北京
国家知识产权局信息显示，长沙麓邦光电科技有限公司申请一项名为“一种去除光学基片残留光刻胶的方法”的专利，公开号CN121721914A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明属于光学镀膜技术领域，具体涉及一种去除光学基片残留光刻胶的方法。本发明首先采用微区XPS技术对光学基片表面残留的光刻胶进行验证，然后采用紫外‑臭氧处理方法对光刻胶残胶进行清洗，通过紫外光和臭氧使光刻胶中的碳氢化合物发生光致敏氧化反应，促使光学基片表面的残胶分解并生成可挥发的气体；最后本发明再次采用微区XPS技术对清洗后的除胶光学基片验证光刻胶残胶是否去除。本发明提供的方法能够准确验证光学基片表面是否残留光刻胶，同时能够有效去除光学基片表面残留的光刻胶，从而使光学基片表面的碳含量以及表面粗糙度显著降低，有效避免对后续镀膜工艺产生不良影响。
天眼查资料显示，长沙麓邦光电科技有限公司，成立于2018年，位于长沙市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本4000万人民币。通过天眼查大数据分析，长沙麓邦光电科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目763次，专利信息164条，此外企业还拥有行政许可11个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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