国家知识产权局信息显示,北京晶亦精微科技股份有限公司申请一项名为“一种抛光垫损耗检测方法、装置、电子设备及存储介质”的专利,公开号CN121715976A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明涉及半导体制造技术领域,公开了一种抛光垫损耗检测方法、装置、电子设备及存储介质,由于根据抛光垫的属性信息,确定第一预设更换阈值和预设压力值,修整器按照预设压力值向抛光垫施加下压力,同时,获取此时的理想扭矩值,在抛光垫对晶圆进行抛光的过程中,获取实际扭矩值,根据实际扭矩值和理想扭矩值,确定抛光垫的第一损耗度,在第一损耗度大于第一预设更换阈值的情况下,确定抛光垫为待更换抛光垫,并进行预警,通过直接获取抛光过程中的实际扭矩值,使得可以根据第一损耗度准确判断抛光垫是否需要更换,避免抛光垫出现表面釉化现象,保证了晶圆的加工质量。
天眼查资料显示,北京晶亦精微科技股份有限公司,成立于2019年,位于北京市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本16646.135万人民币。通过天眼查大数据分析,北京晶亦精微科技股份有限公司参与招投标项目67次,财产线索方面有商标信息15条,专利信息421条,此外企业还拥有行政许可9个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.