北京
国家知识产权局信息显示，深圳晶源信息技术有限公司申请一项名为“基于逆向光刻技术的掩摸版图生成方法及相关产品”的专利，公开号CN121723963A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明提供了一种基于逆向光刻技术的掩摸版图生成方法及相关产品。生成方法包括使用光强计算模型对集成电路目标版图进行逆向仿真，得到对应的目标光强分布图；使用预设生成对抗网络，以目标光强分布图为真实数据，得到目标掩摸版图；预设生成对抗网络设置有生成器、光刻仿真模型和判别器；对目标掩摸版图进行局部优化，得到优化后的目标掩模版图。本生成方法实现了以目标光强分布图为真实数据生成目标掩摸版图，通过版图生成、光刻仿真、更新迭代、验证评估的过程，提高了掩摸版图的生成、优化速度，提升了掩摸版图的图形保真度。
天眼查资料显示，深圳晶源信息技术有限公司，成立于2016年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳晶源信息技术有限公司参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息176条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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