北京
国家知识产权局信息显示，东江核技术应用（广东）有限公司申请一项名为“一种径迹蚀刻梯度孔密度聚碳酸酯膜及其制备方法”的专利，公开号CN121715070A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明公开了一种径迹蚀刻梯度孔密度聚碳酸酯膜及其制备方法，涉及聚碳酸酯膜制备领域，所述制备方法包括以下步骤：通过辐照法按照预设图案在聚碳酸酯膜a上形成潜径迹密度梯度，得到聚碳酸酯膜b；通过交变电场配合蚀刻液对聚碳酸酯膜b进行第一次蚀刻，形成具备非圆形孔口、类圆形孔壁的初始孔，得到聚碳酸酯膜c；对聚碳酸酯膜c进行第二次蚀刻，构建锥形孔道，得到聚碳酸酯膜d；对聚碳酸酯膜d进行终止与后处理，得到梯度孔密度聚碳酸酯膜。本发明通过梯度孔密度、非圆形孔口与锥形孔道的协同作用，实现了颗粒物的分级截留与内部深度负载，有效提升了膜的长期运行稳定性、抗冲击负荷能力及过滤效率，同时降低了清洗频率与运营成本。
天眼查资料显示，东江核技术应用（广东）有限公司，成立于2023年，位于惠州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，东江核技术应用（广东）有限公司共对外投资了2家企业，财产线索方面有商标信息3条，专利信息11条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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