北京
国家知识产权局信息显示，舍弗勒技术股份两合公司申请一项名为“层系统、具有该类型的层系统的流场板、以及燃料电池、电解槽或氧化还原流电池”的专利，公开号CN121726435A，申请日期为2021年4月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于涂覆金属基板（2a）以形成流场板（2）的层系统（1），该层系统包括：‑ 由金属氧化物制成的至少一个覆盖层（1a）；‑ 支承覆盖层（1a）的至少一个中间层（1b）；以及 ‑ 支承（一个或多个）中间层（1b）的下层（1c）；其中，所述覆盖层（1a）由铟锡氧化物形成；其中，所述铟锡氧化物掺杂有来自包括碳、氮、硼、氟、氢、硅、钛、锡和锆的组中的至少一种元素；其中，所述至少一个中间层（1b）由钛氮化物和/或钛碳化物和/或钛碳氮化物和/或钛铌氮化物和/或钛铌碳化物和/或钛铌碳氮化物和/或铬氮化物和/或铬碳化物和/或铬碳氮化物形成；并且其中，所述下层（1c）由钛或钛‑铌合金或铬形成。本发明还涉及具有该类型的层系统（1）的流场板，并且涉及具有该类型的流场板（2，2'）的燃料电池（10）、电解槽或氧化还原流电池。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
