北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“使得能够在高温下进行液滴喷射清洁的方法和设备”的专利，公开号CN121713687A，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，本公开内容的实施例包括一种清洁基板的设备和方法。本公开内容描述了一种清洁基板的方法，所述方法包括向喷嘴供应处于气体温度和气体质量流率的气体。所述方法还包括向所述喷嘴供应处于液体温度和液体质量流率的液体。所述方法还包括在所述喷嘴中将所述气体与所述液体混合以形成流体混合物，所述流体混合物具有低于所述液体温度不超过约10℃的混合物温度。所述方法还包括通过所述喷嘴中的孔口将所述流体混合物喷涂到所述基板的表面上。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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