台积电40%产能被逼转为美国产！

（来源：半导体前沿）

3月19日消息，在美国的压力下，台积电近年来不断加大对美国的投资，承诺投资额已达1650亿美元，然而美国认为这些还不够。

台积电未来不仅可能要再追加1000-2000亿美元的投资，还有可能被逼着将40%的产能转移到美国生产，这是美国商务部长卢特尼克之前透露的目标。

台积电转移的产能也不可能是落后的或者成熟工艺，必然是先进工艺——当前在美国量产的工厂都已经是4nm工艺了，未来再转移的只有是3nm、2nm及尚未量产的A16、A14工艺了，这无异于要把台积电掏空。

对于美国的这一目标，GTC大会上NVIDIA CEO黄仁勋也做出回应，他认为将40%的产能转移到美国是“非常困难”的，认为未来一段时间全球还是要依赖台积电等科技企业的产业链的。

不过这不是黄仁勋第一次回应这个问题了，他认为转移有困难，不看好40%的目标，但也不代表他就不支持台积电赴美生产，实际上NVIDIA还会是台积电美国工厂的主要客户之一。

黄仁勋之前的说法更有代表性，他表示美国要将台积电产能转移到美国本土的说法是不对的，不是转移（shifting），而是新增（adding），后者的说法才是对的。

黄仁勋表示，未来十年台积电要新增巨大产能，部分产能会在美国生产，部分会在欧洲、日本及公司本土生产，其中有大量的业务还是在本土工厂生产的，而未来对产能的需求是远超本土工厂现有的产能规模的。

因此黄仁勋认为这对台积电来说是好事，台积电当前正在全球布局，这对美国来说也是一个优势，让美国制造更有韧性，双方是双赢的，对台积电来说是巨大胜利。

来源：官方媒体/网络新闻

—论坛信息—

名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛

时间：2026年4月24日

地点：上海

主办方：亚化咨询

—会议背景—

随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。

进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。

亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破，如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步成为产业发展的重要推动力。

第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。

—会议主题—