北京
国家知识产权局信息显示，浙江华辰芯光技术有限公司申请一项名为“一种电吸收调制激光器及其制造方法”的专利，公开号CN121584388A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请涉及激光器的技术领域，尤其是涉及一种电吸收调制激光器，包括衬底和外延层，外延层上从下至上依次包括缓冲层、底部DBR层、下限制层、有源区、上限制层和绝缘限制层，所述绝缘限制层的材料为锡硒，所述绝缘限制层上刻蚀有用于激光输出的限制孔。本申请通过拓扑限制替代氧化限制、结构优化和工艺创新，在性能、可靠性、集成度、功耗等核心维度全面超越传统VCSEL和EAM‑VCSEL、硅光方案及电吸收调制激光器（EML），该方案特别适配AI数据中心“1.6T/3.2T高密度、低功耗、宽温域”需求，同时兼容接入网1310nm波段，是能覆盖“短距互联+中距传输”的全场景激光通信方案。
天眼查资料显示，浙江华辰芯光技术有限公司，成立于2021年，位于绍兴市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1834.4029万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江华辰芯光技术有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息65条，专利信息92条，此外企业还拥有行政许可22个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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