北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“数据处理方法、带电粒子评估方法和系统”的专利，公开号CN121586910A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种用于通过跨样品扫描带电粒子束获得的图像数据的数据处理方法；所述方法包括：将所述图像数据的像素分类为前景像素和背景像素，以生成前景像素图；以及使用稀疏矩阵编码技术将所述前景像素图编码为编码数据。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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