说起来芯片,大家现在都不陌生,这玩意儿就跟咱日常的空气和水似的,现代生活根本离不了。但要是问起造芯片最关键的东西是什么?那答案有一个:光刻机。对于咱们中国的半导体产业来说,这东西简直就是“心头痛”,没有之一。
为啥这么说?两个原因,一个比一个扎心。
第一,这玩意儿技术门槛高得吓人。咱们国内自己捣鼓的水平,跟国际上那几家顶尖的比,差距真不是一星半点儿。有人估算过,至少得落后个十年以上 。
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第二,因为美国的制裁,全世界最先进的那种极紫外光刻机,人家压根就不卖给咱们。连稍微先进点的浸润式深紫外光刻机,想买也费劲。这就好比你正饿得慌,结果人家把饭碗端得远远的,还告诉你“不给吃” 。
到底形势有多严峻呢?咱不说虚的,看两个数据,你心里就有数了。
第一个数据,从全球市场来看,咱们国产光刻机占的份额,大概只有0.2%。对,你没看错,是零点二个百分点。现在全球能造光刻机的厂商,掰着手指头数也就那么几家:荷兰的ASML(阿斯麦)、日本的尼康和佳能,再就是咱们的上海微电子。但在市场份额这张饼图里,咱们那0.2%几乎可以忽略不计,剩下的市场全被那三家瓜分了 。
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第二个数据更扎心,咱们自己国内用的光刻机,国产的自给率还不到1%。这里得说清楚,国产光刻机其实也出货,但大部分是用在封测环节的,也就是芯片造好了之后,给它做后续处理。
真正用在最核心的芯片制造环节的前道光刻机,占比低得可怜,连1%都够呛。国内那些晶圆厂里跑着的光刻机,十有八九都是从ASML、尼康、佳能那买的。其中,稍微高端点的,八成找ASML买;低端一些的,两成从日本买 。
所以说,这脖子被卡得是真叫一个死。
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那咱们自己的光刻机,到底捣鼓到啥程度了?公开资料显示,上海微电子的水平达到了ArF级别,显示的精度是90纳米。有人可能会说,通过多次曝光,能做到28纳米。这其中的真假,咱也不敢乱猜。
但之前确实曝光过一台氟化氩光刻机,分辨率能小于65纳米,用的是193纳米波长的光线,套刻精度小于等于8纳米。懂行的朋友可能看出来了,这玩意儿其实离最关键的浸润式技术只差临门一脚了。但就这一脚,跨过去可没那么容易 。
咱们苦光刻机久矣。路虽然难走,但也没有退路。接下来,就盼着国产光刻机能早日捅破那层窗户纸,只要迈进了浸润式那道坎,整个局面或许就能迎来天翻地覆的改变。
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