落后十年以上，全球份额仅0.2%！中国光刻机形势有多严峻？

说起来芯片，大家现在都不陌生，这玩意儿就跟咱日常的空气和水似的，现代生活根本离不了。但要是问起造芯片最关键的东西是什么？那答案有一个：光刻机。对于咱们中国的半导体产业来说，这东西简直就是“心头痛”，没有之一。

为啥这么说？两个原因，一个比一个扎心。

第一，这玩意儿技术门槛高得吓人。咱们国内自己捣鼓的水平，跟国际上那几家顶尖的比，差距真不是一星半点儿。有人估算过，至少得落后个十年以上 。

第二，因为美国的制裁，全世界最先进的那种极紫外光刻机，人家压根就不卖给咱们。连稍微先进点的浸润式深紫外光刻机，想买也费劲。这就好比你正饿得慌，结果人家把饭碗端得远远的，还告诉你“不给吃” 。

到底形势有多严峻呢？咱不说虚的，看两个数据，你心里就有数了。

第一个数据，从全球市场来看，咱们国产光刻机占的份额，大概只有0.2%。对，你没看错，是零点二个百分点。现在全球能造光刻机的厂商，掰着手指头数也就那么几家：荷兰的ASML（阿斯麦）、日本的尼康和佳能，再就是咱们的上海微电子。但在市场份额这张饼图里，咱们那0.2%几乎可以忽略不计，剩下的市场全被那三家瓜分了 。

第二个数据更扎心，咱们自己国内用的光刻机，国产的自给率还不到1%。这里得说清楚，国产光刻机其实也出货，但大部分是用在封测环节的，也就是芯片造好了之后，给它做后续处理。

真正用在最核心的芯片制造环节的前道光刻机，占比低得可怜，连1%都够呛。国内那些晶圆厂里跑着的光刻机，十有八九都是从ASML、尼康、佳能那买的。其中，稍微高端点的，八成找ASML买；低端一些的，两成从日本买 。

所以说，这脖子被卡得是真叫一个死。

那咱们自己的光刻机，到底捣鼓到啥程度了？公开资料显示，上海微电子的水平达到了ArF级别，显示的精度是90纳米。有人可能会说，通过多次曝光，能做到28纳米。这其中的真假，咱也不敢乱猜。

但之前确实曝光过一台氟化氩光刻机，分辨率能小于65纳米，用的是193纳米波长的光线，套刻精度小于等于8纳米。懂行的朋友可能看出来了，这玩意儿其实离最关键的浸润式技术只差临门一脚了。但就这一脚，跨过去可没那么容易 。

咱们苦光刻机久矣。路虽然难走，但也没有退路。接下来，就盼着国产光刻机能早日捅破那层窗户纸，只要迈进了浸润式那道坎，整个局面或许就能迎来天翻地覆的改变。