北京
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国家知识产权局信息显示，安徽吉华新材料有限公司;桂林电子科技大学申请一项名为“一种高内禀矫顽力钕铁硼永磁材料及其制备方法”的专利，公开号CN121583760A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明属于稀土永磁材料技术领域，具体涉及一种高内禀矫顽力钕铁硼永磁材料及其制备方法。本发明提供一种高内禀矫顽力钕铁硼永磁材料及其制备方法，通过粉末物理气相沉积溅射包覆工艺形成核壳结构粉末，使重稀土元素精准分布于晶界，在降低重稀土用量同时显著提高矫顽力，实现高磁性能与高性价比的统一。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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