北京
国家知识产权局信息显示，宁波磁性材料应用技术创新中心有限公司申请一项名为“一种电磁屏蔽材料及其制备方法和应用”的专利，公开号CN121586249A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种电磁屏蔽材料及其制备方法和应用，该材料包括：透明导电的ITO薄膜基底；分别位于ITO薄膜基底的上表面和下表面的周期性纳米晶像素阵列；所述周期性纳米晶像素阵列由多个纳米晶单元按特定图案排列构成，且上下表面的纳米晶单元图案互补，呈“田”字型或“8”字型，上表面纳米晶所占单元格小于下表面，如十字型/开口方环、H型/2型等组合，协同ITO基底的全局导电性与纳米晶像素的局域电磁衰减特性，实现电磁屏蔽效能≥40dB（0.01MHz–10GHz）且全局透光率≥60%，适用于需高透光与强电磁屏蔽的电子设备显示窗口，解决传统金属屏蔽材料不透光、导电聚合物屏蔽效能不足的问题。
天眼查资料显示，宁波磁性材料应用技术创新中心有限公司，成立于2018年，位于宁波市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本5950万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波磁性材料应用技术创新中心有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目8次，专利信息109条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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