北京
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国家知识产权局信息显示，上海创熠微材料科技有限公司申请一项名为“腔室周向进气的匀气结构及其半导体处理设备”的专利，公开号CN121575374A，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，一种腔室周向进气的匀气结构及半导体处理设备，其中，匀气结构设置在一半导体处理设备内，用于向所述半导体处理设备的反应腔输送反应气体，匀气结构包含一个外环导流层和一个内环匀气层，外环导流层与至少一个进气口气体连通，内环匀气层设置无缝环形出气口与所述反应腔气体连通。本发明通过在反应腔内部设置匀气结构，能够在反应腔周向实现均匀的气体分布。
天眼查资料显示，上海创熠微材料科技有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2500万人民币。通过天眼查大数据分析，上海创熠微材料科技有限公司财产线索方面有商标信息2条，专利信息6条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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