荷兰专家直言：ASML光刻机可是花了40年，而中国企业却要自己制造

文/编 阿Q

如下图所示，光刻机巨人作者、荷兰半导体专家马克·海金克在一次采访时表示，ASML花费40年钻研光刻机，才到了今天的水平，而他们也遇见到了中国企业有理由来研发本土化的光刻机技术。

其实，这位荷兰专家也表达出了另一层意思，放着现成的用就行了，非要自己从头造，这不是自讨苦吃吗？

个人觉得，荷兰半导体专家的这句话让老牌半导体制造业霸主ASML第一次感受到了真正的挑战。

从行业发展来看，能站上光刻机这个赛道的玩家，早年都是有深厚家底的。

美国是光刻技术的发源地，靠着军工产业的需求率先实现商业化，GCA和珀金埃尔默凭先发优势成了初代霸主；

日本随后跟上，通产省牵头整合资源，尼康佳能依托光学领域的积淀，联合东芝等芯片企业协同研发，靠着精准的市场策略拿下了第二代霸主的位置；

而ASML从飞利浦的一个边缘技术部门起步，联合台积电深耕技术，靠着晶圆台对准技术和浸润式技术的突破，用40年时间走到了行业顶端，2025年毛利率超50%、净利96亿欧元的成绩，更是印证了其技术壁垒的牢固。

反观中国的光刻机发展，起步阶段还是在被《瓦森纳协议》限制的情况之下。

虽然光刻机的制造涉及光学、机械、电子、软件等上千个细分领域，但和ASML联合台积电、日本企业抱团产业链的模式不同，中国企业走出了更具凝聚力的攻坚路线：

以龙头企业为核心，拉拢产业链各环节的顶尖企业协同发力，从核心部件到整机集成，从材料研发到软件适配，每个环节都有专人死磕。

上海微电子作为整机制造的核心，不断突破光刻机整机技术，而在光学镜头、双工件台、光刻胶等关键部件领域，国内企业也纷纷取得突破，打破了国外企业的独家垄断，这种全链条的协同攻坚，让中国光刻机研发的步伐越走越稳。

这份稳，体现在不骄不躁的长期主义上。

ASML用40年磨一剑，中国企业也深知光刻机研发没有捷径可走。即便现在和ASML还有不小的差距，即便高端光刻机的核心技术还被国外掌握，中国企业依然在持续投入，不断积累技术经验。

其实众所周知，无论是芯片还是光刻机，中国企业都要自主研发是被逼出来的决心。当国外的技术封锁层层加码，当高端光刻机的采购屡屡受限，我们没有别的选择，只能靠自己的双手打破壁垒。

而不是荷兰专家口中传出的。

光刻机的研发，从来都不是一场单纯的技术竞赛，更是一场国家科技实力的比拼，中国企业的抱团攻坚、跨界入局、长期死磕，本质上都是为了掌握半导体产业的核心话语权，为了不再被别人卡住脖子。

ASML的40年，是技术积淀的40年，是行业垄断的40年；而中国光刻机的追路之旅，虽然起步晚、底子薄，却有着最坚定的决心和最强大的产业链支撑。

现在的中国企业，正用自己的狠劲，在光刻机赛道上奋力追赶，或许我们还需要很长的时间才能实现超越，但这份死磕到底的劲头，已经让世界看到了中国半导体产业的韧性。

对此，您怎么看。