535台！ASML详细版2025年度业绩报告来了

ASML 2025年总净销售额为327亿欧元，其中来自亚洲的营收占比过半。

今日，ASML发布2025年度业绩报告。财报数据显示，ASML 2025年总净销售额为327亿欧元，其中来自亚洲的营收为281亿欧元；来自美国的营收为41亿欧元；来自欧洲、中东和非洲地区的营收为5亿欧元。毛利率为52.8%，净利润为96亿欧元；研究与开发费用支出为47亿欧元；系统销量为535台，包含48台极紫外光刻系统、279台深紫外光刻系统以及208台计量和监测系统。

ASML执行副总裁兼首席财务官罗杰·达森表示：对ASML而言，这又是硕果累累的一年。正如预期，在人工智能持续增长的推动下，销售额增长了15.6%。得益于 TWINSCAN NXE:3800E 的强劲销售， EUV 业务表现良好。这款 NXE 系列的最新产品广受客户好评，因为它能显著提高生产效率，帮助客户实现更高的晶圆产能。

ASML还进行了大量的 TWINSCAN NXE:3800E 现场升级，导致 EUV 系统收入的很大一部分转移到了已安装基础收入。在中国的DUV业务表现强于预期，抵消了中国以外地区DUV业务略低于预期的影响，因为中国以外的主流业务依然疲软。

2025年的关键动态

罗杰·达森表示，今年有三个重要因素。首先，部分客户明显感到不确定性加剧，他们担心所需设备的成本可能会大幅上涨，因此对投资建设大型制造基地持谨慎态度，这是可以理解的。 其次，虽然人工智能相关需求持续激增，但2025年上半年其他领域的需求相对低迷。 最终，抓住人工智能带来的机遇的客户数量开始增加。

在研发方面，ASML正在利用人工智能来缩短新产品和服务的上市时间；人工智能也在多个运营领域、客户支持以及公司的各项职能（包括财务、IT、人力资源、法律和合规）方面为公司提供帮助。

展望2026年，ASML预计总净销售额将在340亿欧元至390亿欧元之间。预计毛利率在51%至53%之间，同时年化有效税率约为17%（基于美国通用会计准则）。

受先进逻辑和DRAM市场发展趋势的影响，EUV光刻业务的收入将在2026年显著增长。对于非EUV光刻业务，预计2026年的收入将与2025年持平。总而言之，在强劲的市场动态和产品与服务的稳健战略路线图的支撑下，ASML的长期前景依然稳健。

日前，在其圣地亚哥研发中心取得了一项关键技术突破：他们已成功研发出能稳定输出 1,000 瓦（1kW）功率的极紫外（EUV）光源系统。据预测，到 2030 年，这项技术将使单台光刻机的芯片产出量提升 50%。ASML 负责 EUV 光源技术的首席专家迈克尔·珀维斯（Michael Purvis）明确表示，这并非实验室里的短暂演示，而是一套能在客户量产环境下稳定运行的成熟系统。

ASML通过强化其光刻机中最复杂的部件之一—— 锡滴发生器，实现了功率提升。为产生13.5纳米波长的光线，ASML设备会向腔室内喷射熔融锡滴流，再由大功率二氧化碳激光将其加热成等离子体。在这种超高温物质状态下，锡滴温度超过太阳表面并激发出EUV光。这些光线由蔡司集团提供的精密光学设备收集，导入光刻机用于芯片光刻。

本次公布的核心技术突破包括：将锡滴喷射速率提升一倍，达到每秒约10万滴；并采用两束短脉冲激光将其激发为等离子体，而现有设备仅使用单束塑形脉冲。

科罗拉多州立大学教授Jorge J. Rocca表示：“这极具挑战性，因为需要掌握多项技术与工艺。其实验室专注激光技术研究，并培养了多名ASML科学家。能实现1千瓦功率，这一成就相当惊人。”

珀维斯补充道，ASML认为实现1000瓦的技术方案将为未来持续升级打开空间：“我们已看到通往1500瓦的清晰路径，从物理原理上看，达到2000瓦不存在根本性障碍。”ASML 此时披露这一进展，也与全球竞争环境有关。尽管 ASML 是目前市场上唯一的商业化 EUV 供应商，但地缘政治和供应链安全考量正在催生新的挑战者。

在美国，Substrate 和 xLight 两家初创公司已筹集数亿美元，致力于开发本土替代方案。其中，xLight 更获得了特朗普政府的资金支持，试图利用粒子加速器产生更短波长的 X 射线进行光刻。与此同时，中国在出口管制压力下，也在加速推进本土光刻机研发。

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