北京
国家知识产权局信息显示，北京市天润中电高压电子有限公司申请一项名为“一种在细长管内激发均匀等离子体的镀膜设备”的专利，公开号CN121555991A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明涉及镀膜技术领域，具体涉及一种在细长管内激发均匀等离子体的镀膜设备，包括机架、石英舟、推送装置、输气装置；机架上固定有连接筒；连接筒下端设有输送管；输气装置包括稀释组件和混合组件；稀释组件用于使载气分别将前驱体气体和反应气体单独稀释，混合组件用于将单独稀释后的前驱体气体和反应气体均匀混合后输入输送管。实现载气通过稀释组件对前驱体气体和反应气体分别进行初级稀释，使得三种气体在稀释组件处只有稀释效果，避免了前驱体气体与反应气体长时间接触而产生副产物颗粒；再通过混合组件使分别稀释后的前驱体气体和反应气体快速均匀混合，以保证后续等离子分布的均匀性。
天眼查资料显示，北京市天润中电高压电子有限公司，成立于2006年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，北京市天润中电高压电子有限公司参与招投标项目8次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息26条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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