湖南
前段时间，有机构统计了一下国内半导体设备的自给率情况。
总体来看，自给率达到了30%左右，而国产化程度最高的是去胶设备，达到了80%以上，而国产化率最低的则是光刻机了，实际上只有1%左右，也就是说99%是靠进口的。
事实上，光刻机这个数据并不意外，因为我们都知道，国产光刻机的水平，相比于ASML等，实在是落后太多了，所以不得不依赖进口。
从2015年以来，这10多年间，中国每年进口的光刻机金额，就都超过了80亿美元，也就是500多亿元，有时候更是超过了600亿元。
从数据来看，中国每年购买的光刻机金额，在ASML的光刻机销售额中，都是超过30%的。
下图是从2015年到2024年的数据，可以明显看到中国进口光刻机金额变化情况，一直维持在80美元及以上的高位，几乎就没有下滑。
而这些光刻机中，如果从金额来看，从ASML进口的比例一直在80%左右，而另外的20%左右，则是从日本进口的。
当然，从日本进口的，主要是KrF、i线、G线这些相对成熟落后一点的机型，而从ASML进口的，主要是ArF、ArFi这些相对先进一点的机型。
从这些数据，也能够看出来，光刻机已经是当前国产芯片设备中，相对最为落后的一个环节了，我们对外依赖度实在是太高了。
当然，国产光刻机这些年也一直在努力，进步也很大，只是与国外相比，还是不够看。
我们知道，是光刻机的突破，不是一朝一夕的，光刻机是全球最为复杂的设备之一，是物理、化学、光学、力学、机械学等等诸多学科的综合，更是全产业链的合作，想要突破没有这么快。但不可否认的是，我们苦光刻机已久，只要光刻机不突破，那么卡脖子现象就会一直存在，根本绕不开，所以国产光刻机加油吧，我们没有退路了。
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