北京
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国家知识产权局信息显示，易客发有限公司申请一项名为“浮雕形成版前体”的专利，公开号CN121548778A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，公开了一种方法，其包括以下步骤：以图像方式曝光可成像膜，所述可成像膜包括载体片材和可成像层，将所述成像膜层合至可成像制品，使可成像制品暴露于固化辐射，由此形成成像制品；从所述成像制品移除所述成像膜以及显影所述成像制品以形成浮雕图像。所述方法具有的特定特征在于所述可成像膜包含载体片材，所述载体片材是未经处理的塑料膜或片材，以及所述成像膜可以重复使用数次。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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