北京
国家知识产权局信息显示，深圳市悦目光学器件有限公司申请一项名为“一种用于光学元件的耐磨AR镀膜及其制备方法”的专利，公开号CN121496342A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明公开了一种用于光学元件的耐磨AR镀膜及其制备方法，属于光学元件技术领域，包括基材预处理、打底层沉积、硬度层制备、干涉层沉积、防污层沉积以及后处理。本发明通过优化多层膜结构设计及各层制备工艺，使镀膜同时具备高硬度与高透光性能，膜层厚度处于适宜范围，既避免了因单纯增加硬度层厚度导致的内部应力过大、膜层开裂问题，又解决了控制膜层厚度时硬度不足的缺陷，实现了高硬度、高透光性与适宜膜层厚度的良好平衡。
天眼查资料显示，深圳市悦目光学器件有限公司，成立于1998年，位于深圳市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本5294.117647万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市悦目光学器件有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息74条，此外企业还拥有行政许可12个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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