北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“使用聚焦射束干涉进行的样品厚度计量”的专利，公开号CN121511388A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，所公开的系统及技术涉及制造系统中基于干涉测量的样品厚度计量。例如，所公开的技术包括将聚焦射束引导至样品的多个位置并且检测与离开相应位置且在聚焦射束与所述样品相互作用之后产生的光相关联的干涉图案(IP)。所述技术进一步包括基于与离开第一位置的第一光相关联的第一IP及与离开第二位置的第二光相关联的第二IP来确定在所述第一位置处的所述样品的第一厚度与所述第二位置处的所述样品的第二厚度之间的差值的量值及符号。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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