“中国永远造不出光刻机”？中科大前副院长一句话，把整个科技圈吵醒了

“美国都造不出，中国永远不可能。”这是中科大前副院长朱士尧，在一次公开访谈中说的话。视频一出来，科技圈瞬间炸锅。

有人拍桌子骂：这是专家吗？这是给中国泼冷水！也有人冷静反问：如果这是一句大实话呢？但真正的问题是——这句话，到底是在“唱衰中国”，还是在逼我们认清现实？

要回答这个问题，我们得先搞清楚一件事：光刻机，究竟是个什么怪物。

很多人以为，光刻机就是一台“高级打印机”。错了。极紫外（EUV）光刻机，是人类目前造过最复杂的工业设备之一。一台机器：重 180 多吨、零部件 10 万+、精度要求 头发丝的万分之一、工作环境接近，外太空级真空。

更恐怖的是——它不是一个国家能造出来的。ASML为什么全球独一份？因为它的每一块骨头，来自不同国家：德国蔡司的反射镜（贵到按“克”算）、美国的激光光源、日本的高纯材料、全球顶级精密机械和控制系统。

ASML自己都承认：如果今天让它“完全国产化”，它也做不到。所以朱士尧那句——“美国都造不出”，从工业现实上讲，没毛病。

我们换个角度问。如果光刻机这么难，那中国是从什么时候开始干的？答案很扎心：上世纪 90 年代，我们几乎是“裸奔”入场。没产业链、没供应商、没经验、连像样的实验条件都没有。

2002 年，上海微电子成立。那不是豪华实验室，是边学边干、边错边改。工程师干什么？光学系统一遍遍调、工件台反复校准、真空系统昼夜跑参数。那不是“科技大片”，那是工业苦行僧。

真正的转折点，不是技术，而是封锁。2019 年之后：EUV 禁售、高端 DUV 收紧、维修、升级、软件全受限。很多人当时说：完了，中国芯片完了。但现实却是另一条曲线。当买不到成为常态，自研从“备选项”变成“唯一选项”。于是你会看到这些变化：90nm → 65nm → 28nm；国产光学、工件台、控制系统逐步成型；国产化率从“象征性”走向 80%+。

2024 年开始，国产 28nm 深紫外光刻机进入实测阶段，中芯国际参与验证。这不是传说，这是工程现实。

很多人忽略了一点。朱士尧不是网红，不靠流量吃饭。他讲的那句话，本质只有一句潜台词：别把光刻机想成“几年就能追平”的东西。他说的是：单靠一个国家、单靠热血、单靠意志。是搞不定 EUV 的。

这不是否定中国，而是提醒我们——这是场超长期、超复杂、超烧钱的战争。如果你以为“几年就能对标 ASML”，那才是真正危险。

我们说句掏心窝子的实话。今天的中国光刻机：不如 ASML，差距依然巨大，EUV 还在攻关。

答案只有一句话：不是“永远不可能”，也不是“马上就行”。而是：这是一条没人走过、但中国已经走在路上的硬核之路。它慢。它贵。它不性感。但它一旦成功，全球半导体格局，必然改写。朱士尧那句话，不该被当成“唱衰”，而该被当成一记清醒剂：别幻想捷径，但也别低估中国的耐力。

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