北京
国家知识产权局信息显示，聚光科技（杭州）股份有限公司申请一项名为“在位处理式气体分析装置和方法”的专利，公开号CN121475792A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明属于光谱技术领域，具体涉及一种在位处理式气体分析装置和方法，所述装置包括取样探头和第一过滤器，所述第一过滤器设置在所述取样探头内；第二过滤器设置在过滤腔内，所述过滤腔固定在所述取样探头上；第一开口、第二开口和第三开口设置在所述过滤腔上；阻挡件倾斜地固定在所述过滤腔内，上端和过滤腔内壁间具有缝隙；取样气体依次穿过第一过滤器、所述缝隙、第二过滤器、第一开口和第一管道；第一开口、第二开口和第二过滤器处于阻挡件的一侧，所述第三开口分别处于所述阻挡件的另一侧；切换单元用于切换流路，使得第一气体和第二气体选择性地连通第一开口、第三开口。本发明具自动化、高精度等优点。
天眼查资料显示，聚光科技（杭州）股份有限公司，成立于2002年，位于杭州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本44873.76万人民币。通过天眼查大数据分析，聚光科技（杭州）股份有限公司共对外投资了84家企业，参与招投标项目5000次，财产线索方面有商标信息37条，专利信息859条，此外企业还拥有行政许可436个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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