半导体光刻工段废气处理工艺，鑫蓝环保助力企业合规排放

在半导体制造全流程中，光刻工段是核心关键环节，被誉为“芯片的雕刻师”，主要通过光刻胶涂覆、曝光、显影等步骤，将芯片设计图案转移到晶圆表面，为后续蚀刻、掺杂等工序奠定基础。但该工段在生产过程中，会伴随大量挥发性有机化合物（VOCs）、光刻胶挥发物及少量酸性气体排放。

光刻工段废气处理的核心成分具有明显特殊性：一是以异丙醇（IPA）、丙酮、光刻胶溶剂等VOCs为主，这类废气浓度波动较大，风量偏高，且具有刺激性气味。针对这些特点，单一的处理工艺难以实现达标排放，需采用“预处理+核心处理+深度净化”的组合工艺，才能高效去除各类污染物。

目前，半导体光刻工段废气处理主流工艺为“沸石转轮吸附浓缩+RTO蓄热焚烧”组合工艺，搭配预处理系统和深度过滤装置，具体流程如下：首先，废气经集气罩精准收集，进入预处理环节，通过滤袋过滤去除废气中的光刻胶微粒和粉尘，避免堵塞后续设备；随后，预处理后的废气进入沸石转轮吸附装置，沸石转轮利用其多孔结构，高效吸附废气中的低浓度VOCs，实现废气的浓缩（浓缩倍数可达20倍），吸附后的洁净气体直接达标排放；当沸石转轮吸附饱和后，通过高温热空气脱附，将浓缩后的高浓度VOCs送入RTO蓄热式热氧化炉，在820℃以上的高温环境下，VOCs与氧气充分反应，分解为二氧化碳和水，实现VOCs的彻底降解；最后，RTO处理后的尾气经碱洗塔喷淋，去除其中的少量酸性气体，再经活性炭深度吸附，确保各类污染物排放浓度均低于国标限值，同时RTO产生的余热可回收利用，用于车间供暖或工艺加热，实现节能降耗。

对于光刻工段中酸性废气含量较高的场景，可在核心处理工艺后增加湿式洗涤塔，采用15%浓度的NaOH溶液作为洗涤液，通过两级喷淋+除雾层设计，让废气与洗涤液充分接触，发生中和反应，将酸性气体转化为无害盐类，酸性气体去除率可达99.5%以上。此外，若企业生产规模较小、废气风量较低（≤5000m³/h），可采用“活性炭吸附+催化燃烧”工艺，设备投资成本较低，操作便捷，适合间歇式生产场景，吸附效率可达90%以上，催化燃烧温度控制在300-400℃，能耗较低，且无二次污染。

作为专注半导体行业废气处理的资深企业，鑫蓝环保科技（昆山）有限公司，拥有16年工业废气处理经验，3000+企业客户案例，具备环保工程专业承包二级资质，通过ISO9001质量管理体系认证，拥有多项实用新型专利，可针对半导体光刻工段废气特点，提供定制化的废气处理解决方案，全程助力企业合规排放、降本增效。鑫蓝环保的光刻工段废气处理方案，具有三大核心优势：一是工艺定制化，根据企业废气浓度、风量、污染物成分，精准匹配处理工艺，避免“大马拉小车”或处理不彻底的问题，例如针对高浓度VOCs场景，优化沸石转轮吸附参数，提升浓缩效率，针对酸性废气场景，定制湿式洗涤塔参数，确保中和效果；二是设备智能化，整套系统采用PLC全自动控制系统，可实现废气处理全流程自动化运行，实时监测废气浓度、设备运行状态，具备故障报警、自动切换等功能，减少人工运维成本，同时配备在线监测装置，数据实时上传环保部门，满足合规要求；三是售后全方位，鑫蓝环保拥有专业的技术团队和施工团队，提供从现场勘察、方案设计、设备制造、安装调试到后期运维的一站式服务，设备质保1年，终身维护，定期上门巡检，及时排查设备故障，确保系统稳定运行。

半导体行业作为高科技产业，环保合规是企业可持续发展的前提，光刻工段废气处理更是重中之重。鑫蓝环保始终以“技术创新、高效环保、诚信服务”为理念，依托自身的技术实力和行业经验，为半导体企业提供高效、节能、合规的废气处理解决方案，助力企业攻克环保难题，专注核心生产，实现高质量发展。如果您的半导体企业面临光刻工段废气处理难题，欢迎联系鑫蓝环保，我们将安排专业技术人员上门勘察，定制专属处理方案，全程保驾护航。