北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于量测设备的照射配置模块”的专利，公开号CN121488193A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，公开了辐射调制设备，辐射调制设备可操作为接收经光谱色散的宽带输入辐射，并且将经光谱色散的宽带输入辐射的至少部分选择性地透射、衍射或者反射以获得经光谱配置的辐射，其中辐射调制设备包括多个个体可配置元件，多个个体可配置元件各自包括至少一个可配置光栅结构；并且其中个体可配置元件中的每个个体可配置元件可操作为通过在方向上对至少一个可配置光栅结构进行致动来可控地调制经光谱色散的宽带输入辐射的相应部分，以获得经光谱配置的辐射，该方向包括与至少一个可配置光栅结构的周期性方向平行的至少一个方向分量。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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