北京
国家知识产权局信息显示，宁波锦辉光学科技股份有限公司申请一项名为“连续环形真空镀膜系统及镀膜方法”的专利，公开号CN121472803A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明公开了一种连续环形真空镀膜系统及镀膜方法，属于真空镀膜技术领域。该系统包括呈闭环回路布局的产线主体和传输机构，工艺通道内依次相邻布置化学气相沉积区、隔离模组和物理气相沉积区。所述隔离模组包括流阻通道、环形差分抽气槽及喷射单元。其中，流阻通道内壁与载具轮廓精密匹配以形成微小狭缝间隙；环形差分抽气槽沿周向凹设于通道中部并连接独立高真空泵组，用于建立周向均匀的真空隔离带；喷射单元用于形成逆向气动阻隔屏障。本发明通过几何限流、差分抽气与气动阻隔的耦合作用，在无实体闸阀阻隔的条件下，在CVD与PVD区之间构建了高梯度且稳定的差分压力隔离环境，实现了两种工艺的高效连续集成。
天眼查资料显示，宁波锦辉光学科技股份有限公司，成立于2017年，位于宁波市，是一家以从事橡胶和塑料制品业为主的企业。企业注册资本6262.781万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波锦辉光学科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目24次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息130条，此外企业还拥有行政许可18个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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