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一、化学研磨CMP 钻石碟定义
CMP钻石碟是化学机械抛光工艺中用于修整抛光垫的关键耗材，通过金刚石颗粒去除抛光垫表面的不平整区域，恢复其研磨性能。这些钻石碟对于保持稳定的抛光垫性能、延长抛光垫寿命以及确保整个CMP过程中的高质量晶圆表面处理至关重要。
随着时间的推移，由于累积的碎屑和连续晶片抛光的磨损，抛光垫表面变得光滑或被釉化。这种抛光垫修整器通过重新纹理化抛光垫的表面来恢复抛光垫，从而保持CMP垫性能良好。
使用20倍干涉镜头测量CMP钻石碟的三维轮廓图。
Sensofar的S neox 3D光学轮廓仪通过使用CSI干涉测量技术和20X物镜，我们可以在几秒钟内表征嵌入钻石碟金属上的突出金刚石砂粒的关键特征，包括它们的尺寸、高度、形状、方向和面密度。
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