北京
国家知识产权局信息显示，奕晟微科技（武汉）有限责任公司申请一项名为“一种单轴结构的控温偏压旋转底座”的专利，公开号CN121463778A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明属于半导体制造设备技术领域，尤其涉及一种单轴结构的控温偏压旋转底座，包括，腔室；晶圆台，设置在腔室内；晶圆台下底座，与晶圆台传动连接，晶圆台下底座带动晶圆台在腔室内转动；升降驱动装置，活动端与晶圆台下底座的固定端固接，升降驱动装置使晶圆台下底座带动晶圆台在腔室内升降；晶圆台用于放置晶圆；晶圆台与晶圆台下底座的转动轴之间通过旋转轴连接，旋转轴和转动轴均为中空结构；旋转轴与腔室活动密封配合；旋转轴和转动轴内侧形成用于容纳加热结构、冷却结构和偏压结构的空腔；旋转轴和转动轴同轴设置构成单轴结构。本发明能够简化晶圆台下底座结构，减少密封区域，降低真空泄漏风险，降低装配和维护难度。
天眼查资料显示，奕晟微科技（武汉）有限责任公司，成立于2025年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6.820998万美元。通过天眼查大数据分析，奕晟微科技（武汉）有限责任公司专利信息1条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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