北京
国家知识产权局信息显示，湖南顶立科技股份有限公司申请一项名为“一种分段式化学气相沉积法制备高致密TaC涂层的方法”的专利，公开号CN121428657A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种分段式化学气相沉积法制备高致密TaC涂层的方法，所述方法包括以下步骤：S100、选用基体材料并进行预处理，去除基体材料表面杂质；S200、在第一预设温度和第一预设压力下，通过化学气相沉积法在基体材料上沉积第一预设厚度且呈柱状晶结构的粗颗粒TaC层，构建厚度骨架；S300、降温降压至第二预设温度和第二预设压力，在基体材料上沉积细小晶粒以填充粗颗粒TaC层中的空隙和裂纹，进而得到高致密TaC涂层。本发明通过分段CVD工艺，先高温高压快速积厚形成柱状晶结构的TaC层，为后续低温低压致密化沉积提供空隙填充通道，有效克服了单一CVD空隙与效率的技术问题。
天眼查资料显示，湖南顶立科技股份有限公司，成立于2006年，位于长沙市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3989.2752万人民币。通过天眼查大数据分析，湖南顶立科技股份有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目618次，财产线索方面有商标信息13条，专利信息439条，此外企业还拥有行政许可138个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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