时隔14年推出新款光刻机，日本这家厂商意图打压我国光刻机发展？

光刻机是芯片制造的“心脏”，全球能造前道光刻机的厂商屈指可数，仅荷兰的ASML、日本的尼康和佳能，以及我国的上海微电子。

在这四家厂商中，ASML是绝对的霸主。它不仅垄断了最顶尖的EUV光刻机，还在高端DUV领域占据主导地位。数据显示，ASML全球光刻机市场份额高达82.1%，佳能占10.2%，尼康占7.7%。

尼康虽然市场份额不如ASML，但技术实力不容小觑，是少数能生产部分浸润式光刻机的厂商之一。相比之下，佳能和上海微电子的技术路线更为接近，两者目前都主要聚焦于ArF干式光刻机，尚未跨入浸润式光刻的门槛。

一、 时隔14年，佳能推出新款光刻机

近日，佳能宣布将升级其KrF光刻机，并计划更新ArF设备。这一动作之所以引发行业关注，是因为佳能在成熟工艺设备上已经整整14年没有进行大的更新换代了。

佳能为何选择在此时“苏醒”？这与其独特的市场定位有关。虽然佳能的技术不如ASML先进，但它凭借在i-line、KrF等成熟工艺出货量非常大。据悉，佳能近几年的出货量份额达到32.7%，接近ASML的一半，远高于尼康的4.7%。佳能的设备主要应用于汽车芯片、家电芯片、传感器芯片等不需要最先进制程的领域，这些市场对设备的稳定性和可靠性要求极高，佳能凭借多年的积累赢得了大量订单。

然而，随着全球半导体产业的变化，佳能也面临着新的挑战。一方面，美方的关税政策的影响导致其成本上升，客户投资意愿下滑，佳能不得不下调光刻机销量目标。另一方面，我国半导体产业的崛起，特别是上海微电子的快速发展，让佳能感受到了压力。

二、 是打压还是居安思危？佳能的真实意图

对于佳能时隔14年推出新款光刻机，有人认为这是日本厂商意图打压我国光刻机发展。毕竟，上海微电子和佳能的业务高度重叠，两者都在争夺成熟工艺市场。

但在我看来，将佳能的动作简单解读为“打压”可能过于片面。更合理的解释是，佳能这是在“居安思危”。为什么这样说呢？我们简单的分析一下。

从市场数据来看，上海微电子近年来进步神速。虽然整体国产化率仅为2.5%，但上海微电子在国内市场的份额已经超过80%，并且已经具备90nm及以下的芯片制造能力。并且上海微电子更是实现了28nm浸没式光刻机技术的突破，虽然目前仍处于“实验室”阶段，但这一突破标志着国产光刻机技术已经可以和佳能同台竞技了。

除此之外，佳能虽然在全球市场份额不低，但主要依赖成熟工艺市场。随着上海微电子等国产厂商的崛起，佳能的市场份额正在受到侵蚀。如果佳能继续“躺平”，不进行技术升级和产品迭代，很可能会被我国厂商逐步取代。

因此，佳能选择在此时推出新款光刻机，更像是一种市场防御策略。它希望通过提升设备性能、降低生产成本，来巩固自己在成熟工艺市场的地位，抵御来自我国厂商的竞争压力。

三、 写在最后

佳能时隔14年推出新款光刻机，既是市场竞争的必然结果，也是全球半导体产业格局变化的缩影。对于我国光刻机产业而言，这既是一次挑战，也是一次机遇。

挑战在于，佳能作为老牌厂商，在技术积累、市场渠道等方面仍有优势，其新款光刻机可能会对上海微电子等国产厂商造成一定的竞争压力。机遇在于，竞争能够推动技术进步，佳能的动作也提醒我们，国产光刻机不能止步于现状，必须加快技术研发和产品迭代，才能在激烈的市场竞争中立于不败之地。

未来，随着我国半导体产业的持续发展，国产光刻机有望在成熟工艺市场进一步扩大份额，并逐步向高端领域突破。而佳能等国际厂商，也将不得不面对来自我国竞争对手的挑战。这场竞争，最终将推动整个行业的技术进步和产业升级。