北京
国家知识产权局信息显示，西安卫光科技有限公司;西安微晶微电子有限公司申请一项名为“挡片组件和化学气相沉积系统”的专利，公开号CN121428537A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请提供了一种挡片组件和化学气相沉积系统。该挡片组件包括：至少两个挡片组，分别对应设置于立式炉的至少两个温度不同的装填区内；每一挡片组均包括至少一个挡片；不同挡片组内的挡片的厚度不同；挡片组所在的装填区的温度越高，挡片组内的挡片的厚度越小。本申请能够使得在相同的反应时间内，不同挡片组中，挡片以及挡片上的薄膜厚度之和更加接近，有利于降低不同挡片组中挡片的厚度差，进而能够同步对挡片的厚度监控步骤，同步不同的装填区的更换时间和清洗时间，提高挡片的厚度监控、更换和清洗的效率。本申请的边缘部薄于中间部，本申请具有凸起结构，能够减轻挡片与沉积物发生粘连的情况，便于取出挡片。
天眼查资料显示，西安卫光科技有限公司，成立于2007年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2651.37万人民币。通过天眼查大数据分析，西安卫光科技有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目156次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息42条，此外企业还拥有行政许可17个。
西安微晶微电子有限公司，成立于2016年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，西安微晶微电子有限公司参与招投标项目1次，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可13个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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