中国造不出光刻机？中科大副院长：美国造不出，中国永远都不可能

2024年9月，中科大前副院长朱士尧在一次访谈中，说出了一句引发全网热议的话：“美国造不出，中国永远都不可能”。

在中美科技较劲、美国一直卡我们半导体脖子，不让我们搞光刻机技术的情况下，这话听着就格外扎心。

很多人疑惑，作为一个见证并推动中国科技成长的行业前辈，他为什么要唱衰中国？

其实，朱士尧的这句话里没有悲观，只有对现实的理性认知。

朱士尧说的“美国造不出”，不是说美国造不出任何一台光刻机，也不是说美国造不出光刻机的零件，而是说美国造不出最顶尖的那种光刻机，更没法独自造出一整台顶尖光刻机。

大家可能不知道，现在全球最顶尖的光刻机，是荷兰ASML的EUV光刻机，这东西重达一百八十多吨，里面包含十多万个零部件，堪称全世界最复杂的机器之一。

但ASML自己也造不出所有零件，它的核心镜头来自德国蔡司，精密激光光源来自美国，关键材料来自日本，控制系统来自欧洲。

ASML的本事，就是把这些全球最顶尖的部件整合到一起，让它们能协同工作，而不是自己能造出所有东西。

美国之所以造不出顶尖光刻机，核心就是自己放弃了这条路。

上世纪九十年代，美国在光刻机领域其实也有一席之地，当时的美国企业也是全球光刻机市场的重要玩家。

但后来美国的科技产业，慢慢形成了重利润、轻制造的毛病。

造光刻机又费钱又费力，研发一次就要投入几十上百亿欧元，回报周期还要几十年，远不如搞芯片设计、EDA软件这些领域赚钱快、见效快。

美国企业干脆就退出了光刻机整机的研发赛道，转而聚焦那些高利润的零部件领域，比如给ASML提供光源，靠卖零件躺着赚钱，比自己造整机轻松多了。

再加上后来技术积累断层，等美国想再捡起来的时候，才发现自己早就跟不上了，连德国的精密镜头、日本的核心材料，它自己都造不出来，更别说整合出一台完整的顶尖光刻机了。

更有意思的是，美国现在天天喊着卡中国的脖子，不让ASML给中国出口光刻机，尤其是顶尖的EUV光刻机，早早就全面禁止了。

可它自己连一台完整的顶尖光刻机都造不出来，说白了就是自己不行，还不让别人行，典型的双标现场，说出去都有点丢人。

说完美国，再说说我们中国。

很多人觉得，中国现在连光刻机都造不出来，其实这是天大的误解。

中国目前已经能造出中低端的光刻机了，上海微电子就已经实现了DUV光刻机的量产，这种光刻机虽然比不上顶尖的EUV，但也能满足不少中端芯片的生产需求，比如汽车电子、消费电子这些日常领域，完全够用。

而且大家可能不知道一个关键信息，中国在西方光刻机制裁的缓冲期，悄悄做了一件特别明智的事——囤积了大量的DUV光刻机。

根据荷兰媒体2026年初的重磅报道，中国在2023到2024这两年，从ASML进口的DUV光刻机就超过了120台，占ASML同期全球总出货量的30%以上。

巅峰时期，中国市场贡献了ASML总营收的40%，是它最大的单一市场。

这些囤积的光刻机，搭配我们自己搭建的完备维保体系，就算以后完全停止进口，也能支撑国内芯片产业平稳运行5到10年。

这可不是瞎吹，是荷兰权威科技媒体跟踪ASML产能和出货情况后，得出的实锤结论，足以击碎西方“断供设备就能卡死中国芯片”的执念。

西方还有个偏见，觉得我们囤积的这些DUV光刻机，顶多只能生产中低端芯片，没法突破7nm及以下的先进制程。

毕竟高端芯片需要EUV光刻机，而EUV早就被西方全面禁止向中国出口了。

可他们没想到，中国工程师硬生生靠技术创新，打破了这个封锁。

我们用的是多重曝光技术，简单说就是通过多次光刻、叠加蚀刻的方式，弥补单台DUV光刻机分辨率的不足。

这种方式虽然流程比用EUV复杂一点，成本也高出40%-50%，但确实能生产出7nm芯片。

现在中芯国际依托储备的高端DUV光刻机，采用N+2工艺，已经实现了7nm芯片的稳定量产，良率还超过了80%。

2026年的月产能目标更是达到了7万片，足够支撑华为手机、AI芯片、服务器芯片的规模化出货，相当于直接打破了西方对高端芯片的垄断。

现在再回头看朱士尧的那句话，大家就彻底明白了，他说的“中国永远都不可能”，是建立在“美国造不出”的前提之上的，绝非否定中国的努力和实力。

既然连美国都造不出那些最核心、最难突破的零部件，没法独自造出顶尖光刻机，中国自然也没法凭空造出来。

这不是中国技术不行，也不是我们的科研人员不努力，而是客观存在的现实。

顶尖光刻机的研发，需要长期的技术积累，需要全球产业链的协同合作，不是靠砸钱、靠喊口号就能快速突破的。

朱士尧一辈子跟半导体打交道，太清楚其中的难度了，他说这话，就是想提醒大家，别太急功近利，也别盲目乐观，更别妄自菲薄。

我们要理性看待光刻机的研发难度，它就像一场马拉松，不是靠冲刺就能赢的，需要一步一个脚印，慢慢积累，慢慢突破。

中国从来没有放弃过光刻机的研发，国家一直在加大投入，上海微电子、国望光学、华卓精科等企业，一直在埋头攻关核心技术。

从90纳米到28纳米，我们的国产光刻机一步步突破，国产化供应链也在慢慢成型，核心零部件的国产化率也在持续提升。

我们现在已经形成了“存量保生产、增量攻核心”的良性格局，一边靠囤积的光刻机保障现有产业的运转，一边全力攻关核心技术，补齐短板。

美国的制裁，看似是阻碍，实则是倒逼我们成长的动力。

它让我们更清楚地意识到，核心技术靠化缘要不来，靠封锁压不垮，唯有提前布局、自主创新，才能真正掌握发展主动权。

ASML的成功，是整合全球资源的典范；而中国的突围，是靠自己的努力，在困境中走出的一条属于自己的路。

朱士尧的话，看似扎心，实则是最清醒的提醒。

他不是唱衰中国，而是希望我们能理性、坚定地走下去，不被情绪裹挟，不被困难吓倒。

中国造光刻机，从来不是“能不能”的问题，而是“什么时候”的问题。

现在的我们，有囤积的设备做支撑，有成熟的技术做基础，有无数科研人员在默默坚守、奋力攻关。

只要我们稳步推进、持续发力，相信用不了多久，我们就能突破那些连美国都搞不定的核心技术，造出属于中国自己的顶尖光刻机，彻底打破西方的技术垄断，把芯片产业的主动权，牢牢掌握在自己手里。

到那时候，我们再回头看朱士尧的这句话，就会读懂这位老前辈的良苦用心，也会为中国科技的崛起，倍感自豪。