北京
国家知识产权局信息显示，江苏优众微纳半导体科技有限公司取得一项名为“一种纳米压印用掩模张力装置”的专利，授权公告号CN223857575U，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本实用涉及纳米压印领域，尤其公开了一种纳米压印用掩模张力装置，包括操作台，所述操作台顶部设置有张力机构，所述张力机构包括封板，所述封板一侧固定设置有第一夹板，所述封板另一侧固定设置有所述行轨组，所述行轨组上活动连接有第二夹板，所述第二夹板侧壁上均匀设置有多个弹性件，多个所述弹性件的一端均固定连接在固定板的侧壁；通过张力机构，在辊压过程中掩模的张力会改变，通过弹性件的弹性拉伸将力均匀分布于第二夹板，可以确保掩模在压印过程中保持平整和稳定，从而提高压印的精度和一致性，得到更高质量的压印产品，改进的掩模张力装置会减少调整和操作时间，提高压印过程的速度，从而增加生产效率并降低生产成本。
天眼查资料显示，江苏优众微纳半导体科技有限公司，成立于2023年，位于南通市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本14214.6544万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏优众微纳半导体科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息51条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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