北京
国家知识产权局信息显示，惠州达诚微电子材料有限公司申请一项名为“一种负性光阻剥离液及其制备方法”的专利，公开号CN121411091A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本申请涉及电子化学品领域，更具体的涉及了一种负性光阻剥离液及其制备方法。一种负性光阻剥离液，以质量百分比计，原料包括：主碱剂4~7%，有机胺10~20%，有机介质35~50%，组合功能剂2~6%，润湿渗透剂0.3~0.6%，消泡剂0.2~0.4%，分散悬浮剂0.2~0.3%，去离子水补充余量。本申请所制得的负性光阻剥离液，其不仅能够精准平衡剥离与溶解性能并提供卓越金属保护能力，还能有效降低铜腐蚀速率，并且使用过程中明显降低剥离液用量，弥补了传统配方使用过程中因为剥离液挥发需要补加新液的成本问题，且本申请以水代替部分新液，并且可以通过液位补充新液，大幅减少剥离液用量。
天眼查资料显示，惠州达诚微电子材料有限公司，成立于2018年，位于惠州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，惠州达诚微电子材料有限公司共对外投资了1家企业，财产线索方面有商标信息1条，专利信息24条，此外企业还拥有行政许可9个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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