北京
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有投资者在互动平台向微导纳米提问：“请问公司现在针对存储芯片专门研制的ALD设备是用的臭氧路径吗？臭氧路径有什么优势呢？”
针对上述提问，微导纳米回应称：“尊敬的投资者您好！在ALD设备中，水蒸气与臭氧均可作为氧源。公司出厂的设备能够为客户提供多种配置选择，实际运行中客户会根据成本、稳定性、工艺控制等因素决定具体采用的工艺路线。感谢您的关注！”
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本文源自：市场资讯
作者：公告君
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