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国家知识产权局信息显示，意法半导体国际公司申请一项名为“非易失性存储器中的修整的选择方法、对应设备和计算机程序产品”的专利，公开号CN121415846A，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，本公开涉及非易失性存储器中的修整的选择方法、对应设备和计算机程序产品。一种方法包括为NVM设备中的模拟块从候选修整集合中选择修整，使用应用于NVM设备中的模拟块的所选择的修整读取固定模式以获取读取模式，并且检查读取模式是否等于固定模式。响应于模式相等，选择所选择的修整以应用于模拟块。响应于模式不相等，并且在候选修整集合中存在未选择修整的情况下，选择新修整集合，并且使用新修整集合重复执行、检查和选择。响应于模式不相等，并且在候选修整集合中不存在未选择修整的情况下，指示在选择要应用于模拟块的修整时失败。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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