北京
国家知识产权局信息显示，珠海莫界科技有限公司申请一项名为“一种含环氧端基的高双折射率液晶化合物及其制备方法和应用”的专利，公开号CN121405645A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请提供一种含环氧端基的液晶化合物及其制备方法和应用，所述含环氧端基的液晶化合物具有式I所示结构，本申请的含环氧端基的液晶化合物将液晶片段与环氧基团结合，显著提升了双折射率，同时具有较低的收缩率，解决了传统丙烯酸酯类液晶材料双折射率不足、热稳定性差及加工工艺复杂的问题，可用于偏振体全息光栅的制备，使得偏振体全息光栅具有高的双折射率，低雾度以及高的衍射效率。
天眼查资料显示，珠海莫界科技有限公司，成立于2021年，位于珠海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本835.54万人民币。通过天眼查大数据分析，珠海莫界科技有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目9次，财产线索方面有商标信息34条，专利信息844条，此外企业还拥有行政许可32个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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