美企CEO：若中国突破先进光刻机，将对美国芯片构成致命冲击

2025年12月，美国Substrate公司创始人詹姆斯·普劳德在一场罕见的采访中，用“致命冲击”一词形容中国若掌握先进光刻机技术对美国半导体产业的后果。

詹姆斯·普劳德的警告之所以如此尖锐，源于他对半导体产业生态的了解和判断。光刻机，尤其是极紫外（EUV）光刻机，从来不是一台孤立的机器，它是整个半导体产业链的“支点”。美国对ASML的依赖，本质上是一种“链条式”的垄断，通过控制这个支点，间接影响整个产业链。

一旦这个支点被移除，整个链条将重新排列。美国企业依赖中国市场生存，而中国则依赖美国的设备和荷兰的光刻机。这种相互依存的关系是美国维持技术优势的基础。

普劳德指出，光刻机是“命门”，一旦中国掌握，意味着从设备、材料到制造工艺的整个供应链都将实现国产化。这不仅是技术层面的替代，更是经济层面的“断链”。

美国半导体企业对中国市场的依赖日益加深，而中国的人才回流则为本土创新注入了强大动力。数据显示，自2021年起，已有超过1400名顶尖华裔科学家回国。

普劳德的警告之所以振聋发聩，是因为它精准捕捉到了中国半导体产业正在发生的质变。过去，中国光刻机的突破更多停留在“首台”和“原型”阶段，距离量产还有很长的路。然而进入2025年后，情况发生了里程碑式的变化。

这些数据表明，中国在光刻机领域的突破，已不再是“实验室里的奇迹”，而是具备了产业化的潜力。更重要的是，这种突破其实并不是单一性的技术攻关，而是由上海微电子（SMEE）、哈尔滨工业大学、长春光机所等机构组成的“产学研”联盟协同攻关的结果。这种模式打破了传统分工，将研发、制造、验证紧密捆绑，为快速迭代提供了可能。

2025年11月，上海微电子的28纳米浸没式DUV光刻机进入量产交付阶段，标志着国产光刻机首次在成熟制程上实现商业化应用。2025年12月，深圳实验室完成EUV原型机测试，目标是2028年实现先进集成电路生产。这些进展，正在将“最后一公里”从遥远的愿景，拉近到眼前的现实。

正如比尔·盖茨在2023年预言的，美国的封锁举措正在“倒逼中国制造加速崛起”。

此外，美国企业曾寄望于通过向中国出售设备来维持增长和技术迭代。然而封锁政策让这些企业失去了中国市场，导致营收锐减。例如，泛林集团对华营收占比从2024年的42%暴跌至2025年的15%。

而再从全球视角来看，全球半导体产业正从美国一家独大的格局，向多极化演变。中国、欧洲、日本都在寻求建立自己的半导体产业链。

美国主导的全球化分工是一种“零和博弈”思维：一方的领先必然意味着另一方的落后。但如今，这种思维正在失效。未来，多种技术路线可能并存。