北京
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国家知识产权局信息显示，三菱化学高新材料有限公司申请一项名为“用于化学机械抛光的挡圈”的专利，公开号CN121398933A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，一种用于化学机械处理的挡圈，包括由基体材料和填料制成的导热材料。所述填料按重量计占挡圈材料的10%至70%。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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