北京
国家知识产权局信息显示，艾斯尔光电（南通）有限公司申请一项名为“一种光刻掩膜版基版平面度检测装置”的专利，公开号CN121386287A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请公开了一种光刻掩膜版基版平面度检测装置，涉及光刻掩膜版基版测量技术领域；本申请包括检测机构，包括检测箱和设置在其内的激光干涉仪；传输机构，包括与检测箱连通的传输通道，所述传输通道的两端均转动设置有传输辊；本申请通过将清洁机构设置在传输路径上，实现了基版在途清洁，清洁完成后进行检测作业，清洁机构的设置，利用除静电件先行中和电荷，彻底解除污染物与基版表面的静电吸附，再通过气流吹扫件与负压抽取件构成的逆向气流，高效剥离并即时移除污染物，杜绝了清洁后的基版在转移过程中被二次污染的风险，为后续的激光干涉测量提供了一个洁净的检测表面，从而保证了平面度检测结果的准确性与可靠性。
天眼查资料显示，艾斯尔光电（南通）有限公司，成立于2019年，位于南通市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本200万美元。通过天眼查大数据分析，艾斯尔光电（南通）有限公司财产线索方面有商标信息1条，专利信息34条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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