国家知识产权局信息显示,艾斯尔光电(南通)有限公司申请一项名为“一种光刻掩膜版基版平面度检测装置”的专利,公开号CN121386287A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本申请公开了一种光刻掩膜版基版平面度检测装置,涉及光刻掩膜版基版测量技术领域;本申请包括检测机构,包括检测箱和设置在其内的激光干涉仪;传输机构,包括与检测箱连通的传输通道,所述传输通道的两端均转动设置有传输辊;本申请通过将清洁机构设置在传输路径上,实现了基版在途清洁,清洁完成后进行检测作业,清洁机构的设置,利用除静电件先行中和电荷,彻底解除污染物与基版表面的静电吸附,再通过气流吹扫件与负压抽取件构成的逆向气流,高效剥离并即时移除污染物,杜绝了清洁后的基版在转移过程中被二次污染的风险,为后续的激光干涉测量提供了一个洁净的检测表面,从而保证了平面度检测结果的准确性与可靠性。
天眼查资料显示,艾斯尔光电(南通)有限公司,成立于2019年,位于南通市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本200万美元。通过天眼查大数据分析,艾斯尔光电(南通)有限公司财产线索方面有商标信息1条,专利信息34条,此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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