北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“表膜隔膜、表膜及其制造方法”的专利，公开号CN121399541A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，提供一种用于光刻设备的表膜隔膜，所述表膜隔膜包括包含金属硅碳氮化物的芯部。也描述一种包括这样的表膜隔膜的表膜，以及一种包括这样的表膜隔膜或表膜的光刻设备。也提供一种制造表膜隔膜的方法，所述方法包括在包含氮的气流中溅射金属硅化物靶和硅碳化物靶以形成金属硅碳氮化物芯部，可选地其中金属选自铌、钼、钛、钨、铂、钴、钽、钯或钒中的一种或更多种。也描述这样的表膜隔膜、表膜、光刻设备或方法在光刻方法或设备中的用法。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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